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磁控濺射鍍膜設備各種鍍膜方式比較

    磁控濺射鍍膜設備各種鍍膜方式比較

    磁控濺射鍍膜時一種使用物理氣象沉積的一種設備,其不同的濺射方式有著不同的區別。

磁控濺射鍍膜設備原理

    磁控濺射鍍膜設備濺射分析表:

種 類

典型工藝參數

二極濺射

dc:1~7kv;0.15~1.5ma/cm2;rf:0.31~10kv;1~10w/cm2,真空鍍1~10pa

三極或四極濺射

dc:0~2kv;rf:0~1kv;真空鍍6×10-2~1×10-1pa

磁控濺射

dc:0.2~1kv;3~30w/cm2;真空鍍:10-2~10-3pa

射頻濺射

rf:0.3~10kv;0~12kv;頻率:13.56mhz;真空鍍1~10-1pa

離子束濺射

采用直流,真空鍍:10-3pa


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